產品詳情
半導體手套箱
發布時間 : 2025-11-16 03:21
控 制：水、 氧小于1ppm（純化系統氣體出口）。
調節裝置：通過PLC觸摸式調節（加熱、 抽空、 凈化、 再生）全過程無需人為監控。
工作氣體：N2或Ar（氣體循環）。
循環風機：高速變頻鳳機，流量0-10Qm3/h，微處理器控制，經過壓力測試的不銹鋼裝置。
雙凈化桂：德國BASF除氧材料，美國UOP高效吸水材料。（選配）
凈化閥：德國Burkert，全自動電氣動閥。 模塊化設計。
再生系統：用于凈化系統再次利用，使其活化；再生需要N2/H2或A曠H2的混合氣體，真中H2占5-10%。顯示系統：控制單元采用PLC觸摸屏，操作菜單：中文。
真空系統：自動氣控電鍍板；真空泵選用英國Edwards 真空泵（與烤箱公用泵型號可選）